硅溶膠/二氧化硅拋光液
產品詳細介紹Sciyea二(er)腐蝕(shi)反(fan)應硅磨光液通常由高溶解度的(de)腐蝕(shi)反(fan)應硅微(wei)粉所主成。可盡量避免加(jia)工生產(chan)時易所產(chan)生的(de)刮傷(shang)現狀，不適主要用于零部件的(de)精拋(pao)，能實現零部件需(xu)要的(de)磨砂功能，可換(huan)用相(xiang)同進口量企業產(chan)品。
類(lei)產品詳細介紹
- 通常訊息
- 符合于藍原石相關原材料、超硬陶瓷制品相關原材料、硅片、裝飾管、鎂鋁錳鋼、有機物半導體技術等拋光生產制作；
- pH比較穩定總體堅持不便
- 濃度15-45（w%）
- 普遍于多種類涂料的奈米級催化機打磨
- 性質
- 粒度均一（粒度分散窄，形貌成正球狀）
- 增加光澤效應高（唯一性配比，PH穩定性始終不變）
- 高溝壑度（表皮重量Ra＜0.2nm TTV＜3um）
- 循環系統頻次多，選用使用年限長
- 晶體轉速慢，能力固定
- 產品參數
- 總體信息內容
- 適宜于藍原石建筑食材、超硬淘瓷建筑食材、硅片、不銹鋼材質的、鎂不銹鋼類、有機物半導體材料等打磨拋光粗加工；
- 酸度穩定的通常始終保持發生變化
- 量15-45（w%）
- 密切用做多個材料的納米技術級催化自動化機械增加光澤
- 優點
- 顆粒直徑均一（顆粒直徑分散窄，形貌成正球狀）
- 增加光澤學習凈化率高（特出配方法，PH比較穩定不減）
- 高平緩度（表明安全性能Ra＜0.2nm TTV＜3um）
- 重復三次多，實用年限長
- 晶體強度慢，安全性能平衡
| 型號 | 中心粒徑（nm） | PH值 | 應用領域 |
| 3800 | 20-40 | 10.0 | 單晶硅、碳化硅、砷化鎵、激光晶體等化合物半導體。 |
| 3801 | 60-80 | 10.0 | 藍輝石襯底、激光手術單多晶體、電子光學單多晶體、鈮酸鋰、鉭酸鋰等。 |
| 3803 | 80-120 | 10.5 | 機光晶胞、精密加工五金、鋁合金軌道類、氧化物鋁瓷質。 |
| 3803S | 60-80 | 3.0 | 氮化鋁陶瓷制品 |
被拷貝產品設備聯接
長按視頻保存圖片/說說
回復郵件
資詢表單控件：
詳詢東西：
你還如何不增多任何人類產品
