硅溶膠/二氧化硅拋光液
企業產品簡價Sciyea二氧化(hua)物物硅(gui)cnc精密機械處(chu)理液重(zhong)點由高溶解(jie)度的(de)氧化(hua)物物硅(gui)微粉所成分。可(ke)解(jie)決處(chu)理時易制造(zao)的(de)刮傷(shang)癥狀，適在于軸(zhou)類零件的(de)精拋，能到軸(zhou)類零件請求的(de)鏡面板治療效果，可(ke)代替品相(xiang)似進(jin)口(kou)報關廠品。
產品介簡
- 常規資訊
- 適用人群于藍紅寶石素材、超硬瓷磚素材、硅片、不銹鋼304、鎂鋁合金門窗材料、有機化合物半導體器件等打磨制作；
- ph值平衡幾乎始終維持相同
- 水分含量15-45（w%）
- 廣泛應用主要用于四種相關材料的奈米級催化自動化cnc精密機械加工
- 的特點
- 粒級均一（粒級生長窄，形貌成正球狀）
- 打蠟 質量高（唯一性工序，PH動態平衡未變）
- 高崎嶇不平度（外觀效果Ra＜0.2nm TTV＜3um）
- 循環往復機會多，動用使用時間長
- 結晶體流速慢，耐熱性維持
- 產品參數
- 關鍵的信息
- 選采用藍晶石建筑涂料、超硬陶瓷廠家建筑涂料、硅片、不銹鋼、鎂鋁合金、化學物質光電器件等拋光加工生產；
- 酸堿值穩定性差不多保持良好相同
- 含磷量15-45（w%）
- 比較廣泛在許多種材質的納米級級檢查是否機打磨拋光
- 基本特征
- 粒度布置均一（粒度布置布置窄，形貌成正球狀）
- 拋光效應高（特異配料配方，PH維持相同）
- 高白皙度（單單從表面的品質Ra＜0.2nm TTV＜3um）
- 嵌套循環機會多，采用壽命長
- 晶體效率慢，特性維持
| 型號 | 中心粒徑（nm） | PH值 | 應用領域 |
| 3800 | 20-40 | 10.0 | 單晶硅、碳化硅、砷化鎵、激光晶體等化合物半導體。 |
| 3801 | 60-80 | 10.0 | 藍月亮石襯底、激光手術單納米線、電子光學單納米線、鈮酸鋰、鉭酸鋰等。 |
| 3803 | 80-120 | 10.5 | 脈沖光多晶體、精密鑄造五金、鋁合金軌道類、鈍化鋁瓷質。 |
| 3803S | 60-80 | 3.0 | 氮化鋁陶瓷廠家 |
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