鉆石研磨墊
設備簡單介紹Sciyea金(jin)剛石(shi)磨(mo)(mo)細(xi)墊(dian)(dian)，需(xu)分層漿(jiang)料，合理節省研拋時長并增強了生(sheng)產車間環保，下(xia)(xia)跌變低混凝土正確處理成本價。磨(mo)(mo)細(xi)墊(dian)(dian)進(jin)行(xing)背膠與磨(mo)(mo)細(xi)盤黏貼(tie)，以改變便捷化的連接(jie)和卸(xie)下(xia)(xia)來(lai)，金(jin)剛石(shi)磨(mo)(mo)細(xi)墊(dian)(dian)可單獨連接(jie)到現(xian)存磨(mo)(mo)細(xi)盤/拋磁盤上。
食品(pin)簡(jian)潔
- 基本信息
- 粒徑：X-4mic、9mic、16mic；
- 尺寸：640mm、860mm、880mm、980mm、1120mm；
- 妙用：電子光學電子器件、化學物質半導體材料、玻璃板晶圓、反射鏡、瓷質的磨細施工工藝；
- 特性
- 實現晶片穩定的高去除率和較低的表面粗糙度，更有利于后續的加工；
- 相對于使用游離磨料更低的生產成本；
- 更淺的亞表面損傷層；
- 更加清潔的工作環境；
- 節能環保，不需建立游離磨料廢液沉淀池
- 產品參數
- 基本信息
- 粒徑：X-4mic、9mic、16mic；
- 尺寸：640mm、860mm、880mm、980mm、1120mm；
- 應用：光電元器件、有機化合物半導體技術、波璃晶圓、三棱鏡、陶瓷圖片的粉磨新工藝；
- 特性
- 實現晶片穩定的高去除率和較低的表面粗糙度，更有利于后續的加工；
- 相對于使用游離磨料更低的生產成本；
- 更淺的亞表面損傷層；
- 更加清潔的工作環境；
- 節能環保，不需建立游離磨料廢液沉淀池
1.粉磨材料固結于粉磨墊中，以構建高效能及維持的清理率，加快粉磨高效率> 2倍，就縮短CMP準確時間> 20％，切削率會達相同孔徑抹灰砂漿粉磨加工制作工藝 的2倍左右2.SEO的磨料層的樣子，以確保晶片代加工后極高的表明質量，和 保障卓越的鑄件表面調控耐磨性(TTV, Warp, Bow)。3.不須混合物漿料，節約開支精力并持續改善了的工作地點的潔面度，無污泥加工處理的成本，節約開支周圍環境潔面花銷。4.確認背膠與拋光盤粘帖，以進行便捷化的組裝和卸下來，進行固定的拋光墊可一直組裝到目前擁有產品板上，需特別的資本加盟加盟
| 型號 | 厚度（mm） | 粒徑（um） |
| Y04 | 2.20 | 4 |
| Y09 | 2.20 | 9 |
| Y20 | 2.20 | 20 |
| YF04 | 2.60 | 4 |
| YF09 | 2.60 | 9 |
| YF20 | 2.60 | 20 |
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