鉆石研磨墊
產品設備概述Sciyea金剛石精(jing)磨墊，不(bu)用辦理(li)搭配漿料，避免浪費研拋(pao)日期并促(cu)進(jin)(jin)了生產加工室內環(huan)境(jing)，較大(da)(da)大(da)(da)大(da)(da)減(jian)少泥槳辦理(li)成本費。精(jing)磨墊順利通過背膠與精(jing)磨盤(pan)裝貼(tie)過，以(yi)確保方便(bian)的進(jin)(jin)行裝和替換，金剛石精(jing)磨墊可可以(yi)直接(jie)進(jin)(jin)行裝到原有(you)精(jing)磨盤(pan)/拋(pao)影碟上。
設備簡紹(shao)
- 基本信息
- 粒徑：X-4mic、9mic、16mic；
- 尺寸：640mm、860mm、880mm、980mm、1120mm；
- 使用用途：光學材料元件、單質半導體設備、玻璃紙晶圓、反射鏡、衛浴陶瓷的打磨技藝；
- 特性
- 實現晶片穩定的高去除率和較低的表面粗糙度，更有利于后續的加工；
- 相對于使用游離磨料更低的生產成本；
- 更淺的亞表面損傷層；
- 更加清潔的工作環境；
- 節能環保，不需建立游離磨料廢液沉淀池
- 產品參數
- 基本信息
- 粒徑：X-4mic、9mic、16mic；
- 尺寸：640mm、860mm、880mm、980mm、1120mm；
- 作用：光學元件功率器件、類化合物半導體材料、鋼化玻璃晶圓、反射鏡、淘瓷的研磨設備加工制作工藝 ；
- 特性
- 實現晶片穩定的高去除率和較低的表面粗糙度，更有利于后續的加工；
- 相對于使用游離磨料更低的生產成本；
- 更淺的亞表面損傷層；
- 更加清潔的工作環境；
- 節能環保，不需建立游離磨料廢液沉淀池
1.磨料磨具固結于精磨墊中，以建立高質量及保持穩定的我們要除率，增強精磨質量> 2倍，延長CMP時間段> 20％，切削率可達到相近的粒度砌筑砂漿精磨工序的2倍上文2.調優的磨料粒度層形式，以推動晶片制造后高的表明效率，和要確保優厚的軸類零件平面圖有效控制穩定性(TTV, Warp, Bow)。3.不可攪拌漿料，節約開支日期并改善了辦公地點的衛生度，無混凝土加工處理直接服務費，節約開支工作環境衛生服務費。4.實現目標背膠與拋光盤黏貼，以實現目標省時的裝配和取下，進行固定的拋光墊可簡單裝配到總數機械設備板上，不需上限的的投資的投資
| 型號 | 厚度（mm） | 粒徑（um） |
| Y04 | 2.20 | 4 |
| Y09 | 2.20 | 9 |
| Y20 | 2.20 | 20 |
| YF04 | 2.60 | 4 |
| YF09 | 2.60 | 9 |
| YF20 | 2.60 | 20 |
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你們也沒有修改所以設備
